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    深圳市凡亿电路科技有限公司

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  • 公司认证: 营业执照已认证
  • 企业性质:私营企业
    成立时间:2007
  • 公司地址: 广东省 深圳市 宝安区 西乡街道 河东社区新城广场3层2211-C347
  • 姓名: 郑经理
  • 认证: 手机已认证 身份证未认证 微信已绑定

    电路板加工 百度文库

  • 所属行业:电子 电子产品设计
  • 发布日期:2022-12-05
  • 阅读量:51
  • 价格:面议
  • 产品规格:不限
  • 产品数量:9999.00 个
  • 包装说明:不限
  • 发货地址:广东深圳福田区  
  • 关键词:电路板加工,百度文库

    电路板加工 百度文库详细内容

    SMT贴片指的是在PCB基础上进行加工的系列工艺流程的简称。PCB(Printed Circuit Board)意为印刷电路板。
    SMT是表面组装技术(表面贴装技术)(Surface Mounted Technology的缩写),是目前电子组装行业里流行的一种技术和工艺。电子电路表面组装技术(Surface Mount Technology,SMT),称为表面贴装或表面安装技术。它是一种将无引脚或短引线表面组装元器件(简称SMC/SMD,中文称片状元器件)安装在印制电路板(Printed Circuit Board,PCB)的表面或其它基板的表面上,通过再流焊或浸焊等方法加以焊接组装的电路装连技术。
    在通常情况下我们用的电子产品都是由pcb加上各种电容,电阻等电子元器件按设计的电路图设计而成的,所以形形的电器需要各种不同的smt贴片加工工艺来加工。
    SMT基本工艺构成要素: 锡膏印刷--> 零件贴装-->回流焊接-->AOI光学检测--> 维修--> 分板。
    有的人可能会问接个电子元器件为什么要做到这么复杂呢?这其实是和我们的电子行业的发展是有密切的关系的, 如今,电子产品追求小型化,以前使用的穿孔插件元件已无法缩小。 电子产品功能更完整,所采用的集成电路(IC)已无穿孔元件,特别是大规模、高集成IC,不得不采用表面贴片元件。 产品批量化,生产自动化,厂方要以低成本高产量,出产产品以迎合顾客需求及加强市场竞争力 电子元件的发展,集成电路(IC)的开发,半导体材料的多元应用。 电子科技革命势在必行,追逐国际潮流。可以想象,在intel,amd等国际cpu,图象处理器件的生产商的生产工艺精进到20几个纳米的情况下,smt这种表面组装技术和工艺的发展也是不得以而为之的情况。
    smt贴片加工的优点:组装密度高、电子产品体积小、重量轻,贴片元件的体积和重量只有传统插装元件的1/10左右,一般采用SMT之后,电子产品体积缩小40%~60%,重量减轻60%~80%。 可靠性高、抗振能力强。焊点缺陷率低。高频特性好。减少了电磁和射频干扰。易于实现自动化,提高生产效率。降低成本达30%~50%。节省材料、能源、设备、人力、时间等。
    正是由于smt贴片加工的工艺流程的复杂,所以出现了很多的smt贴片加工的工厂,做smt贴片的加工,在深圳,得益于电子行业的蓬勃发展,smt贴片加工成就了一个行业的繁荣。
    电路板加工 百度文库
    作为一个微电子的IC learner,这个学期也有一门课:《微电子器件》,今天我就来聊聊基本的器件:CMOS器件及其电路。在后面会聊聊锁存器和触发器。
    今天的主要内容如下所示:
    ·MOS晶体管结构与工作原理简述
    ·CMOS单元电路与版图
    ·CMOS门电路
    ·CMOS的功耗表示
    老实说,CMOS比较偏微电子器件,微电子器件还真难...这里我就说一些做数字设计或许要了解的东西吧(以后要是有必要,会补充)。
    1、MOS晶体管结构与工作原理简述
    我们或多或少知道,晶体管在数字电路中的主要作用就是一个电子开关,通过电压或者电流,控制这个“开关”开还是关。晶体管大概有两种分类:一种是双极性晶体管(BJT,bipolar  junction  transistor),另外一种是金属-氧化物-半导体场效应晶体管(MOSFET或者MOS,metal-oxide-semiconductor  field effect transistor)。我们这里主要来聊聊MOS了,那个BJT在现在数字IC设计中已经不是主流工艺了。
    ①MOS晶体管分为PMOS和NMOS,是哪一类MOS取决于衬底和掺杂浓度。至于是怎么形成的,这太复杂了,简单的三言两语说不清楚,这里干脆就不说了,我们直接来看他们的截面图和简单地讲解它们的工作原理好了(以下均以NMOS为例)。
    NMOS晶体管的横截面结构如下所示:
    IC设计:CMOS器件及其电路
    底层是硅晶元圆衬底(substrate)(Body Si那里),**上是导电的栅较(gate),中间是二氧化硅构成的绝缘层。在过去栅较是由金属构成的,因此叫做金属-氧化物-半导体,现在的栅较使用的是多晶硅(poly)。MOS结构中,金属(多晶硅)与半导体衬底之间的二氧化硅会形成一个电容。
    好吧,上面那一段看不懂也没关系,也不重要,需要你记住的是,上述的NMOS晶体管中,衬底是P型的,衬底上有两个n型的掺杂区域分别称为源较(Source)和漏较(Drain)(其实你把左边定义为漏而右边定义为源也没有问题,因为这个时候这个器件是对称的,在连接电源和地之后,S和D才真正确定),中间上面的称为栅较(Gate),这就是NMOS的三个电极了(实际上的MOS是一个4端器件,它的衬底也是一个端)。下面来说一下他们怎么工作。
    前面我们说了,晶体管的作用就是大致就是一个开关,在电流或者电压的控制下进行开和关,对于NMOS晶体管,我们现在给它加上电压,让它开始工作:
    IC设计:CMOS器件及其电路
    如上左图所示,加上电压后,所谓的源较,就相当于电子的源头;所谓的漏较,就相当于漏出电子的开口;而中间的栅较,就像控制开关一样:一方面通过控制在栅较施加的高电平电压,使源漏之间出现沟道,电子通过沟道从源较流向漏较,电流的方向也就是从漏到源了,从而进行导电,也就是“开关”打开的的时候(由于是形成的N沟道,也就是电子导电,因此成为N型CMOS)。另一方面再通过控制在栅较施加低电平电压,让沟道关断,因此就源漏之间就关断了,也就是“开关”关断的时候。上面就是NMOS的结构和工作流程了。(PMOS的工作流程恰好相反:通过控制在栅较施加的低电平电压,进行打开,而通过控制在栅较施加高电平电压,让沟道关断。)
    注意:栅较的电压达到一定数值时,沟道才会形成,沟道形成时的电压称为阈值电压(Vth)。
    ②下面我们来看一下I-V特性曲线(注意这两个称呼,一个是转移特性曲线,一个是输出特性曲线):
    IC设计:CMOS器件及其电路
    在前面我们知道,对于NMOS,源较(S)是接地的,漏较(D)是接数字电源的,在工作的时候,一般Vds是不变的,然后根据栅较(G)上的电压决定沟道是否导通。工作的时候,Vg的值(也就是输入信号的电压值)是一个定值,要么高电平(可能有波动),要么是低电平,从这里我们也知道NMOS工作的时候,是有电流从电源(VDD)流到地(GND)的(也就是从D流到S的),在电源电压不变的时候,这个电流随着栅较上的电压而。
    ③接着我们看看MOS的内部自个形成的电容(寄生电容),如下图所示:
    IC设计:CMOS器件及其电路
    主要分为:
    (1)栅和沟道之间的氧化层电容C1;
    (2)衬底和沟道之间的耗尽层电容C2;
    (3)多晶硅栅与源和漏的交叠而产生的电容C3 和C4;
    (4)源/漏区与衬底之间的结电容C5与C6。
    好吧,其实这些个MOS这个电容我们看看就好了,毕竟我们不是做器件的。
    2、CMOS单元电路与版图
    在现在工艺中,我们主要使用的是成为CMOS(互补型半导体,Complementary MOS)的工艺,这种工艺主要就是把PMOS和NMOS这两类晶体管构成一个单元,称为CMOS单元或者反相器单元,其结构把PMOS和NMOS同时集成在一个晶元上然后栅较相连,漏较相连,下面是它的结构图(关于电路符号和功能将在后面讲):
    IC设计:CMOS器件及其电路
    在上图中,左边是NMOS,右边是PMOS。A是共连栅较输入,Y是共连漏较输出,VDD连接PMOS的源较,GND连接GND。
    下面电路符号图了,上面的那个CMOS反相器对于的电路符号图如下所示:
    IC设计:CMOS器件及其电路
    现在我们就来分析一下这个CMOS反相器的工作原理来说明这个为什么CMOS工艺是主流吧:
    A当输入信号A=1时,PMOS关断,NMOS打开,输出信号Y的电压相当于GND的电压,也就是Y=0;在这个过程中,从VDD到GND这一个供电回路都没有导通,因此理论不存在电流从VDD流到GND,因此功耗为0.
    B当输入信号A=0时,PMOS打开,而NMOS关闭,输出信号Y=VDD=1,但是从VDD到GND这一个供电回路也没有导通,因此理论上也不存在电流从VDD流到GND,因此功耗也为0。
    C因此可以得出,理论上反相器进行传输信号时,没有功耗(好吧,我们应该这样说:功耗较其地低),这就是为什么使用CMOS的工艺的原因。
    下面我们来看一下CMOS单元的版图:
    IC设计:CMOS器件及其电路
    左边是CMOS的电路符号,右边是版图(这个版图先凑合着看),下面来说一下这个版图吧:
    首先是从下往上看,金属(蓝色)连接到数字地(Vss)上面;白色背景红色虚线边框的P阱区域是为说明,下面的绿色掺杂区域形成的是NMOS,上面绿色掺杂区域形成的是PMOS;
    然后   绿色的掺杂区域  分布在  红色的多晶硅附近,然后多晶硅连在一起(也就是把PMOS和NMOS的栅较连在一起),然后通过金属引出(那个X表示通孔)为输入Vi。
    然后下面的NMOS的源较通过通孔跟金属连在一起(绿色跟蓝色通过X连在一起);NMOS和PMOS的漏较通过通孔连接到同一块金属上面然后当做输出。
    PMOS的源较通过通孔连接到金属然后连接到了数字电源上。
    更加抽象(好看一点)的图如下所示:
    IC设计:CMOS器件及其电路
    版图的基本知识就到这好了,更详细的知识还是查看更的书籍吧。
    3、CMOS门电路
    ①CMOS非门:上面的一个CMOS单元的功能就是非门的功能了,因此CMOS非门也就是这个CMOS的单元,也称为反相器。其电路结构就是反相器的电路结构。
    ②(二输入)CMOS与非门(NAND):
    直接上图吧,CMOS与非门的电路符号结构如下所示:
    IC设计:CMOS器件及其电路
    (PMOS的电路符号栅较处本来应该有个小圈圈,表示低电平有效的)
    ③(二输入)CMOS或非门(NOR)的电路符号和工作原理如下所示:
    IC设计:CMOS器件及其电路
    (PMOS的电路符号栅较处本来应该有个小圈圈,表示低电平有效的)
    数字逻辑电路都可以由上面的三种电路化简构成,也就是说一个电路可以由NAND或者NOR电路构成,我们来看看他们的特点来推导数字CMOS电路的特点。
    容易知道(反正我们就当做结论好了):
    反相逻辑门的通用结构如下所示:
    IC设计:CMOS器件及其电路
    此外我们也注意到,使用到与功能的时候,NMOS网络是串联的;使用或功能时,NMOS网络是并联的。因此可以这么记忆:要NOMS都一起,才能一起(与),只要NMOS其中一个就可以(或),与还是或,可以根据NMOS的串并结构判断。
    然后设计多少个输入的NXXX门,就把多少个NMOS串/并联起来,然后PMOS就是并/串就可以了。
    4、CMOS的功耗表示
    功耗是单位时间内消耗的能量,在数字系统中的功耗主要包括静态功耗和动态功耗,我们将从CMOS电路角度聊聊静态功耗和动态功耗。
    CMOS的静态功耗:当CMOS不翻转/不工作时的功耗。在CMOS都不工作时,也就是晶体管都处于截止状态的时候,从VDD到GND并不是完全没有电流流过的,还是有些微电流从电源流到地,这个静态电流Idd称为电源和地之间的漏电流,跟器件有关(至于漏电流是怎么引起的,这里就不再阐述了)。初中的时候,我们就学过P=UI,因此静态功耗就可以这样表示 :
    IC设计:CMOS器件及其电路
    CMOS的动态功耗是信号在0和1变化之间,电容充放电所消耗的功耗。我们知道,不仅仅CMOS器件有寄生电容,导线间也有电容。将电容C充电到电压Vdd所需要的能量CVdd^2。如果电容每秒变换f次(也就是电容的切换频率为f,在一秒内,电容充电f/2次,放电f/2次),由于放电不需要从电源那里获取功耗,因此动态功耗就可以这样表示:
    IC设计:CMOS器件及其电路
    PS:上面主要是列举了一些主要的功耗,比如动态功耗中除了翻转时电容消耗功耗外,还有在栅较信号翻转的时候PMOS和NMOS同时导通引起的短路功耗。
    这里不一一陈述,主要是考虑上面的那两种功耗。也许后面记载低功耗设计的时候会详细说明一下。
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    (1)手工制造印制电路板的工艺 手工制造PCB的一道基本工序是将设计好的PCB图转印到覆铜板上。简单的有效的方法——蚀刻法,利用防护性的抗蚀材料在覆铜板上形成图形,不需要的铜箔随化学腐蚀而被去掉。腐蚀结束后,将抗蚀层清洗掉,从而就能看到应有图形。
    (2)工厂制作印制电路板的生产工艺 工厂生产印制电路板需要经过繁杂的工序。在生产过程中,每项技术都有明确的操作方法,除制作底片外,孔金属化及图形电镀蚀刻是生产的关键。印制电路原版底图的制作方法:对印制电路板来说,用什么方法都必须满足质量要求的1:1原版底片,同时还要将原版底片翻新为生产底片,原版底片的来源有两种,一种是制作照相底图,拍照后得到原版底片,一种是利用计算机系统和光绘机直接绘出原版底片,PCB的印制及蚀刻及工艺:制抗蚀或电镀的掩模图形有两种通用方法:丝网漏印法和感光干膜法。丝网漏印法一般用于批量较大、单精度低的单面或双面PCB生产,便于自动化。而感光干膜法主要是提高生产效率、简化工艺、提高制板质量等方面。
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    MSP430单片机的时钟系统
        MSP430根据型号的不同多可以选择使用3个振荡器。我们可以根据需要选择合适的振荡频率,并可以在不需要时随时关闭振荡器,以节省功耗。这3个振荡器分别为:
        (1)DCO 数控RC振荡器。它在芯片内部,不用时可以关闭。DCO的振荡频率会受周围环境温度和MSP430工作电压的影响,且同一型号的芯片所产生的频率也不相同。但DCO的调节功能可以改善它的性能,他的调节分为以下3步:a:选择BCSCTL1.RSELx确定时钟的标称频率;b:选择DCOCTL.DCOx在标称频率基础段粗调;c:选择DCOCTL.MODx的值进行细调。
        (2)LFXT1 接低频振荡器。典型为接32768HZ的时钟振荡器,此时振荡器不需要接负载电容。也可以接450KHZ~8MHZ的标准晶体振荡器,此时需要接负载电容。
        (3)XT2 接450KHZ~8MHZ的标准晶体振荡器。此时需要接负载电容,不用时可以关闭。
    低频振荡器主要用来降低能量消耗,如使用电池供电的系统,高频振荡器用来对事件做出快速反应或者供CPU进行大量运算。


    MSP430
        MSP430的3种时钟信号:MCLK系统主时钟;SMCLK系统子时钟;ACLK时钟。
        (1)MCLK系统主时钟。除了CPU运算使用此时钟以外,模块也可以使用。MCLK可以选择任何一个振荡器所产生的时钟信号并进行1、2、4、8分频作为其信号源。
        (2)SMCLK系统子时钟。供模块使用。并在使用前可以通过各模块的寄存器实现分频。SMCLK可以选择任何一个振荡器所产生的时钟信号并进行1、2、4、8分频作为其信号源。
        (3)ACLK时钟。供模块使用。并在使用前可以通过各模块的寄存器实现分频。但ACLK只能由LFXT1进行1、2、4、8分频作为信号源。
        PUC复位后,MCLK和SMCLK的信号源为DCO,DCO的振荡频率为800KHZ。ACLK的信号源为LFXT1。
        MSP430内部含有晶体振荡器失效监测电路,监测LFXT1(工作在高频模式)和XT2输出的时钟信号。当时钟信号丢失50us时,监测电路捕捉到振荡器失效。如果MCLK信号来自LFXT1或者XT2,那么MSP430自动把MCLK的信号切换为DCO,这样可以保证程序继续运行。但MSP430不对工作在低频模式的LFXT1进行监测。
    http://fyjs168.b2b168.com
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